UP-206 金属圆柱腔式MPCVD设备

1.微波系统(采用进口微波源)

微波频率

2450±25MHz

输出功率

0.6kw~6kw 连续可调

微波泄漏

离设备 5cm 处，微波泄漏≤ 2 mw/cm2

2.真空系统

工作气压范围

10~250Torr

自动稳压范围

40~250Torr

真空泵

采用 4.4L/s 旋片式真空泵

系统漏率

<1.0×10^-9 Pa*m³ /秒 (通过氦质谱检漏仪检测)

腔体保压能力

每 24 小时压升小于 0.2 Torr

本底极限真空

0.1Pa(7.5×10^-4 Torr)

3.真空反应腔及基片台

反应腔材料及结构

双层水冷不锈钢反应腔

电动升降式水冷基片台，直径 100mm

钼基片台直径≥50mm

4.气路

系统自带四路 MFC，可扩展至六路

选用日本富士金进口流量计及流量控制阀

5.测温系统

选用德国品牌红外测温仪，范围：300~1300 摄氏度

6.软件

配置 PLC 控制的 15“触摸显示屏，用户操作界面友好，所有操作均可在触摸屏上完成

自带缺水，缺气，电源缺相，火球跳变，过温过载，打火等自动保护

生产流程通过工艺配方自动控制,可设置多达十套工艺配方

系统自带全自动抽气，点火，升温，降温等预设流程，用户操作简便

全自动温度控制，气压控制，极大减轻系统操作员的工作量