EX2自动椭圆偏振测厚仪是基于消光法(或称“零椭偏”)椭偏测量原理,针对纳米薄膜厚度测量领域推出的一款自动测量型教学仪器。
EX2仪器适用于纳米薄膜的厚度测量,以及纳米薄膜的厚度和折射率同时测量。
EX2仪器还可用于同时测量块状材料(如,金属、半导体、介质)的折射率n和消光系数k。
特点:
仪器采用消光法椭偏测量原理,易于操作者理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。
采用水平放置样品的方式,方便样品的取放。
集成一体化设计,简洁的仪器外形通过USB接口与计算机相连,方便使用。
采用激光作为探测光波,测量波长准确度高。
可测量纳米薄膜的膜厚和折射率;块状材料的复折射率、样品反射率、样品透过率。
仪器软件可自动完成样品测量,并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。
软件中设置了用户使用权限(包括:管理员、操作者等模式),便于仪器管理和使用。
利用本仪器,可通过适当扩展,完成多项偏振测量实验,如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光等。
应用
EX2适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量,也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。
EX2可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。
技术指标:
项目
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技术指标
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仪器型号
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EX2
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测量方式
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自动测量
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样品放置方式
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水平放置
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光源
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He-Ne激光器,波长632.8nm
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膜厚测量重复性*
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0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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膜厚范围
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透明薄膜:1-4000nm
吸收薄膜则与材料性质相关
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折射率范围
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1.3 – 10
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探测光束直径
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Φ2-3mm
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入射角度
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30°-90°,精度0.05°
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偏振器方位角读数范围
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0-360°
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偏振器步进角
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0.014°
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样品方位调整
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Z轴高度调节:12mm
二维俯仰调节:±4°
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允许样品尺寸
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圆形样品直径Φ120mm,矩形样品可达120mm x 160mm
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配套软件
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* 用户权限设置
* 多种测量模式选择
* 多个测量项目选择
* 方便的数据分析、计算、输入输出
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较大外形尺寸
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(入射角度70°时)550*375*260mm
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仪器重量(净重)
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约15Kg
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选配件
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* 半导体激光器
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注:(1)测量重复性:是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。
性能保证
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ISO9001国际质量体系下的仪器质量保证
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专业的椭偏测量原理课程
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专业的仪器使用培训